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标准型胶体二氧化硅CMPJSYAPG-K30N
应用场景
后金属缓冲抛光、通用CMP、低缺陷率
标准型胶体二氧化硅CMPJSYAPG-K30N
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-K30N 是一款标准型胶体二氧化硅基 CMP 抛光液，适合硅片、氧化层、绝缘层及相关薄膜材料的常规精密平坦化加工，具有较好的胶体稳定性和工艺适配性。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-K30N |
产品类型 | 标准型胶体二氧化硅 CMP 抛光液 |
应用类型 | 硅片、氧化层、绝缘层、薄膜平坦化 |
外观 | 半透明至乳白色胶体液体 |
SiO₂ 浓度 | 标准型设计 |
pH | 碱性体系 |
介质 | 去离子水 |
稳定性 | 胶体分散稳定，适合 CMP 加工 |
保质期 | 6 个月（密封避光，5–35℃储存） |
二、产品特点
1. 标准型胶体二氧化硅 采用胶体二氧化硅体系，适合常规硅基材料、氧化层和绝缘层平坦化加工。
2. 胶体分散稳定 颗粒分散均匀，有助于降低团聚风险，提升抛光过程稳定性。
3. 工艺适配性较好 兼顾材料去除与表面质量，适合对平坦化效果有一定要求的 CMP 工序。
4. 可稀释 可根据工艺要求用去离子水稀释，适配不同设备与加工条件。
5. 水基环保 无有机溶剂，低气味，操作环境友好。
三、典型应用场景
后金属缓冲抛光、通用CMP、低缺陷率
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