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碱性氧化层CMP抛光液JSYAPG-K1730
应用场景
氧化硅衬底CMP抛光、高平坦化效率
碱性氧化层CMP抛光液JSYAPG-K1730
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-K1730 是一款碱性体系氧化层 CMP 抛光液，针对硅片表面氧化层、绝缘层及相关薄膜材料的平坦化加工设计，强调碱性环境下的胶体稳定性与表面质量控制。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-K1730 |
产品类型 | 碱性氧化层 CMP 抛光液 |
应用类型 | 氧化层、绝缘层、薄膜平坦化 |
外观 | 半透明至乳白色胶体液体 |
pH | 碱性体系 |
介质 | 去离子水 |
稳定性 | 胶体分散稳定，适合 CMP 加工 |
保质期 | 6 个月（密封避光，5–35℃储存） |
二、产品特点
1. 碱性氧化层 CMP 适配 针对氧化层、绝缘层及薄膜平坦化设计，适合硅基材料的精密平坦化加工。
2. 胶体分散稳定 颗粒分散均匀，有助于降低团聚风险，维持抛光过程稳定。
3. 表面质量控制 可用于对表面平整度、划伤控制和镜面质量要求较高的工序。
4. 可稀释 可根据工艺要求用去离子水稀释，适配不同设备与加工条件。
5. 水基环保 无有机溶剂，低气味，操作环境友好。
三、典型应用场景
氧化硅衬底CMP抛光、高平坦化效率
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