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6N级超高纯胶体二氧化硅（QUARTRONPL系列）JSYAPG-QUART
应用场景
半导体CMP、超精密抛光、电子级晶圆、高纯度要求抛光
6N级超高纯胶体二氧化硅（QUARTRONPL系列）JSYAPG-QUART
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-QUART 是 QUARTRONPL 系列 6N 级超高纯胶体二氧化硅，以超高纯胶体二氧化硅为关键成分，面向半导体、硅片、晶圆、光学材料及要求高纯环境的精密抛光应用，强调高纯度、高平整、低损伤与稳定加工。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-QUART |
产品系列 | QUARTRONPL |
产品类型 | 6N 级超高纯胶体二氧化硅 |
主要成分 | 超高纯胶体二氧化硅 |
应用类型 | 半导体、硅片、晶圆、光学材料、精密抛光 |
外观 | 浅色至半透明液体 |
pH | 碱性体系 |
介质 | 去离子水 |
稳定性 | 分散稳定，适合高纯精密抛光 |
保质期 | 6 个月（密封避光，5–35℃储存） |
二、产品特点
1. 6N 级超高纯定位 产品定位为 6N 级超高纯胶体二氧化硅，适合对纯度要求较高的精密抛光场景。
2. 胶体二氧化硅体系 以超高纯胶体二氧化硅为关键成分，有助于实现高平整表面。
3. 低损伤表面质量 有助于降低表面损伤，提升硅片、晶圆及光学材料的表面质量。
4. 分散稳定性好 体系分散稳定，颗粒分布均匀，有利于加工过程的连续一致性。
5. 水基环保 无有机溶剂，低气味，操作环境友好。
三、典型应用场景
半导体CMP、超精密抛光、电子级晶圆、高纯度要求抛光
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