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下一代氧化物CMP抛光液JSYAPG-OPTI
应用场景
氧化物、多晶硅、FEOL前段工艺CMP抛光
下一代氧化物CMP抛光液JSYAPG-OPTI
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-OPTI 是面向下一代氧化物平坦化工艺的 CMP 抛光液，定位为更先进的氧化物抛光解决方案，可用于氧化物层、绝缘层及相关薄膜结构的精密平坦化加工。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-OPTI |
产品类型 | 下一代氧化物 CMP 抛光液 |
应用类型 | 氧化物层、绝缘层、薄膜平坦化 |
外观 | 半透明至乳白色胶体液体 |
pH | 碱性体系 |
介质 | 去离子水 |
稳定性 | 胶体分散稳定，适配 CMP 加工 |
保质期 | 6 个月（密封避光，5–35℃储存） |
二、产品特点
1. 下一代氧化物平坦化定位 面向更先进的氧化物层、绝缘层及薄膜结构加工，适合对平坦化效果要求更高的工艺。
2. 胶体分散稳定 颗粒分散均匀，有助于降低团聚和划伤风险，提升加工过程稳定性。
3. 表面质量与平坦化兼顾 可用于对表面平整度、镜面质量和缺陷控制要求较高的 CMP 工序。
4. 可稀释 可根据工艺要求用去离子水稀释，适配不同设备与加工条件。
5. 水基环保 无有机溶剂，低气味，操作环境友好。
三、典型应用场景
氧化物、多晶硅、FEOL前段工艺CMP抛光
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